公益財団法人 市村清新技術財団において「第116回（令和7年度第2次）新技術開発助成」の公募が、１０月１日（水）より開始しますのでお知らせします。
本助成は、独創的で実用化を目的とした開発試作を対象に、中小企業等の新技術開発を支援するものです。
【募集概要】
■応募期間：令和7年10月1日（水）～ 10月20日（月）
■助成内容：技術開発費の4/5、上限2,400万円、前渡し
■対象企業：資本金3億円以下又は従業員300名以下の非上場企業 ほか条件あり
■対象技術：特許等による知財を有し、1年以内に実用化を目指す開発試作（要確認）
■申請方法：財団ホームページより申請書を登録・印刷のうえ、郵送提出
■チラシ：市村清新技術財団「第116回+新技術開発助成」募集要項
詳細は下記URLをご参照ください。
公益財団法人 市村清新技術財団 HP（https://www.sgkz.or.jp/project/newtech/）
県内企業の皆様におかれましては、ぜひ本助成制度の活用をご検討ください。
どうぞよろしくお願いいたします。
